DIIO unterstützt Design Intelligence Awards in Hangzhou

Der Design Intelligence Award (DIA) ist der erste internationale Industrial Design Award, initiiert und durchgeführt von der CAA China Academy of Art and Design in Hangzhou (China). Das DIIO der HfG Offenbach ist beratendes Partnerinstitut des Wettbewerbs, Frank Zebner, Professor für Technische Produkte und Produktsysteme an der HfG, ist selbst Experte für die Nominierungen.

Der DIA-Award ist eine innovative Design-Plattform, die im Jahr 2015 zum Zwecke der globalen Evaluierung und Förderung des Designs ins Leben gerufen wurde. 2016/2017 wird der Designwettbewerb nun zum zweiten Mal ausgeschrieben. Der mit hohen Preisgeldern ausgelobte Wettbewerb soll das Design als Disziplin sowie die Zusammenarbeit und Vernetzung des internationalen Designs fördern. Insgesamt werden 4.800.000 RMB bzw. 650.000 Euro ausgeschüttet. Die zwei ersten Gewinner_innen erhalten jeweils ca. 135.000 Euro, der dritte bis zehnte 27.500 Euro und der elfte bis dreißigste noch 13.500 Euro. Anmeldegebühren werden keine erhoben. 

Alle internationalen Einsendungen bzw. Bewerbungen sollen in hohem Maße den Aspekten des intelligenten und neuen Entwerfens und Produzierens Rechnung tragen. Das DIA Evaluation System umfasst folgende Bewertungskriterien:

• Innovation, Ästhetik, Technik und Praktikabilität.
• Berücksichtigung der neuen Industrialität und Produktion hinsichtlich Losgrößen, Ökonomie, Integration der Arbeitskraft usw.
• Bezüge zu sozialen und ökologischen Entwicklungen.

Die (individuelle) Public Registration endet am 6. Januar 2017 (Beijing Time). Die Expert Nomination endet an 24. Februar 2017 (Beijing Time). Weitere Informationen unter www.di-award.org.

14.12.16